Nujira打开美国设计中心
Nujira包络跟踪公司已经宣布,它正计划开一个设计中心在加州,美国,2014年3月。这将是公司的第一个设计中心在英国以外。
设计中心将重点发展新一代包络跟踪等,ICs和本地应用程序将提供一个基础和操作支持美国的客户和合作伙伴。
设计中心位于美国将使Nujira能够利用设计的专业知识在这个领域并添加这个才华横溢的工程师已经在英国。
包络跟踪是对智能手机,使他们迅速成为一个必需的射频功率放大器的效率最大化,提高电池寿命。所使用的技术也在许多其他射频功率放大器应用程序从蜂窝基站广播发射机的功率效率改进体现在降低运营成本,降低冷却需求和降低对环境的影响。
首席执行官蒂姆•海恩斯Nujira表示:“LTE智能手机的射频前端是一个巨大的增长领域,并提供一个最刺激和令人兴奋的设计挑战当今集成电路设计。获得最好的性能结果等需要创意和高度熟练的模拟,射频和开关集成电路转换给这些线圈设计师。”
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